Diseño, fabricación y caracterización de dispositivos nanofotónicos

Los dispositivos nanofotónicos integrados permiten combinar diversas funcionalidades ópticas a un coste muy bajo, dado que se pueden fabricar gran cantidad de circuitos muy complejos en áreas pequeñas.

El Centro de Tecnología Nanofotónica trabaja tanto en el diseño como en la fabricación y caracterización de dispositivos fotónicos basados fundamentalmente en guías de alto contraste y estructuras nanométricas (anillos resonantes, cavidades en guías, etc).

En esta línea cabe destacar que se consideran dispositivos completos en sentido amplio, con una funcionalidad concreta y unas especificaciones determinadas. Las aplicaciones fundamentales son tanto pasivas (filtrado, ecualización, líneas de retardo, demultiplexación, etc) como activas (amplificación, conmutación, memorias, etc), incluso sintonizables en longitud de onda.

La ventaja de estos dispositivos es su bajo coste, ya que se pueden fabricar en superficies muy pequeñas un gran número de circuitos.

El material base es fundamentalmente silicio y óxido de silicio, aunque también se están desarrollando trabajos de integración con otros semiconductores que proporcionan funcionalidades activas, como nanocristales de silicio.

Se dispone de herramientas de simulación, la plataforma de fabricación en obleas de 6¿¿ de Silicio, y estaciones de caracterización.