Semiconductor process flow for a silicon nitride waveguide platform having silicon pillars as thermal sinks for hybrid photonic integration

Instituto Universitario de Telecomunicación y Aplicaciones Multimedia

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A semiconductor manufacturing process flow to create a silicon nitride photonic integration platform with silicon pillars as thermal shunts, for use on hybrid integrated technologies such as III-V semiconductors.

Tipo de tecnología

PATENTE

Inventores

Micó Cabanes Gloria, Rodríguez Marie-Isabelle, Bufi Giuseppe Libero, Pastor Abellán Daniel, Muñoz Muñoz Pascual

Estado de protección

Nacional: P202430118 - 16/02/2024

Texto de la patente

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