Semiconductor process flow for a silicon nitride waveguide platform having silicon pillars as thermal sinks for hybrid photonic integration

Instituto Universitario de Telecomunicación y Aplicaciones Multimedia

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A semiconductor manufacturing process flow to create a silicon nitride photonic integration platform with silicon pillars as thermal shunts, for use on hybrid integrated technologies such as III-V semiconductors.

Tipo de tecnología

PATENTE

Inventores

Micó Cabanes Gloria, Rodríguez Marie-Isabelle, Bufi Giuseppe Libero, Pastor Abellán Daniel, Muñoz Muñoz Pascual

Estado de protección

Nacional: P202430118 - 16/02/2024

Texto de la patente

https://lp.espacenet.com/searchResults?submitted=true&locale=es_LP&DB=lp.espacenet.com&ST=advanced&TI=&AB=&FTXT=&PN=ES2963848&AP=&PR=&PD=&PA=&IN=&CPC=&IC=&Submit=BUSCAR

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